Samsung slutför framgångsrikt 5nm EUV-utveckling



Samsung Electronics Co., Ltd., a world leader in advanced semiconductor technology, today announced that its 5-nanometer (nm) FinFET process technology is complete in its development and is now ready for customers' samples. By adding another cutting-edge node to its extreme ultraviolet (EUV)-based process offerings, Samsung is proving once again its leadership in the advanced foundry market.

Jämfört med 7 nm ger Samsungs 5 ​​nm FinFET-processteknik upp till en 25-procentig ökning av logikområdets effektivitet med 20 procent lägre strömförbrukning eller 10 procent högre prestanda som ett resultat av processförbättringar så att vi kan ha mer innovativ standardcellarkitektur. Förutom förbättringar av Power Performance Area (PPA) från 7 nm till 5 nm, kan kunderna fullt utnyttja Samsungs mycket sofistikerade EUV-teknik. Liksom föregångaren använder 5 nm EUV-litografi i metalllagersmönster och minskar maskskikten och ger bättre trovärdighet. En annan viktig fördel med 5 nm är att vi kan återanvända alla 7 nm immateriella rättigheter (IP) till 5 nm. Därmed kommer 7 nm kunders övergång till 5 nm att dra stor nytta av minskade migrationskostnader, förverifierade designekosystem och följaktligen förkorta deras 5 nm produktutveckling.

Som ett resultat av det nära samarbetet mellan Samsung Foundry och dess 'Samsung Advanced Foundry Ecosystem (SAFE)' -partners, är en robust designinfrastruktur för Samsungs 5 ​​nm, inklusive processdesignpaketet (PDK), designmetodik (DM), elektronisk designautomation (EDA) -verktyg och IP har tillhandahållits sedan det fjärde kvartalet 2018. Dessutom har Samsung Foundry redan börjat erbjuda 5nm Multi Project Wafer (MPW) -tjänst till kunder.

'Efter att ha lyckats slutföra vår 5 nm-utveckling har vi bevisat vår kapacitet i EUV-baserade noder,' säger Charlie Bae, verkställande direktör för Foundry Business på Samsung Electronics. 'Som svar på kundernas ökande efterfrågan på avancerad processteknik för att differentiera deras nästa generations produkter fortsätter vi vårt åtagande att påskynda volymproduktionen av EUV-baserad teknik.'

I oktober 2018 tillkännagav Samsung beredskapen och den initiala produktionen av 7 nm-process, sin första processnod med EUV-litografiteknik. Företaget har levererat kommersiella prover av branschens första EUV-baserade nya produkter och har startat massproduktion av 7 nm process i början av året.

Dessutom samarbetar Samsung med kunder på 6 nm, en anpassad EUV-baserad processnod, och har redan tagit emot produktbandet från sitt första 6nm-chip.

Bae fortsatte, 'Med tanke på de olika fördelarna, inklusive PPA och IP, förväntas Samsungs EUV-baserade avancerade noder vara hög efterfrågan på nya och innovativa applikationer som 5G, artificiell intelligens (AI), high performance computing (HPC), och fordon. Genom att utnyttja vår robusta tekniska konkurrenskraft inklusive vårt ledande inom EUV litografi kommer Samsung att fortsätta leverera den mest avancerade tekniken och lösningarna till kunderna.

Samsung foundry's EUV-based process technologies are currently being manufactured at the S3-line in Hwaseong, Korea. Additionally, Samsung will expand its EUV capacity to a new EUV line in Hwaseong, which is expected to be completed within the second half of 2019 and start production ramp-up for next year.